詳細摘要： scia Mill 150適用于在多種材料復雜多層膜上的微結構刻蝕。該系統對活性氣體相容，能夠進行反應蝕刻工藝以提高選擇性和刻蝕速率。由于其節省空間的設計，sc...
產品型號：所在地：北京市更新時間：2025-02-13 在線留言北京歐唐科技發展有限公司
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詳細摘要： scia Mill 150適用于在多種材料復雜多層膜上的微結構刻蝕。該系統對活性氣體相容，能夠進行反應蝕刻工藝以提高選擇性和刻蝕速率。由于其節省空間的設計，sc...
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詳細摘要： scia Mill 200適用于在多種材料的復雜多層膜上進行微結構刻蝕，樣品尺寸可達直徑200mm。該系統對活性氣體相容，能夠進行反應蝕刻工藝以提高刻蝕選擇比和...
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詳細摘要： scia Mill 300適合針對直徑達300 mm的各種基底材料的離子束刻蝕。該系統對活性氣體相容，能夠進行反應蝕刻工藝以提高刻蝕選擇比和刻蝕速率，并可配備不...
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